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電鍍?cè)?電鍍光亮劑 江蘇夢(mèng)得鍍銅添加劑 高性能PCB-200線路板填孔添加劑 電鍍中間體,酸銅中間體,鍍鎳中間體,電鍍光亮劑
普通會(huì)員
產(chǎn)品價(jià)格¥150.00元/千克
產(chǎn)品品牌夢(mèng)得
最小起訂≥1 千克
供貨總量2000 千克
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更新日期2021-06-24 15:22
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聯(lián)系地址:中國(guó)江蘇省鎮(zhèn)江市丹陽(yáng)市江蘇省丹陽(yáng)市延陵鎮(zhèn)夢(mèng)得化工區(qū)
品牌: |
夢(mèng)得 |
所在地: |
江蘇 鎮(zhèn)江市 |
起訂: |
≥1 千克 |
供貨總量: |
2000 千克 |
有效期至: |
長(zhǎng)期有效 |
產(chǎn)品特性: |
面銅只需要17-25um即可填滿盲孔 |
保質(zhì)期: |
36個(gè)月 |
產(chǎn)品特性 | 面銅只需要17-25um即可填滿盲孔 |
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保質(zhì)期 | 36個(gè)月 |
產(chǎn)地 | 江蘇 |
類別 | 光亮劑 |
執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn) | 國(guó)標(biāo) |
種類 | 鍍銅添加劑 |
主要用途 | 光亮劑 運(yùn)載劑 整平劑 |
執(zhí)行質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn) | 國(guó)標(biāo) |
分類 | 電鍍助劑 |
品牌 | 夢(mèng)得 |
型號(hào) | PCB-200 |
準(zhǔn)入認(rèn)證 | IOS9001 |
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1、 面銅只需鍍17-25um即可填滿盲孔。
2、 A/R比3:1通孔TP值可維持在80%以上。
3、 光亮劑穩(wěn)定性良好,分解產(chǎn)物少,且活性炭過(guò)濾周期長(zhǎng)。
4、 鍍銅內(nèi)應(yīng)力極低,對(duì)軟板鍍銅后不易造成板翹。
5、 鍍層特性同時(shí)注重較強(qiáng)的抗張強(qiáng)度Elongation,抗拉強(qiáng)度為30-40KN/cm2,Elongation也有15-20%以上。
6、 針對(duì)孔徑較大的盲孔(開(kāi)口125um),只需調(diào)整部分添加劑濃度即可將盲孔填滿。
鍍液組成及操作條件 | 范圍 | 標(biāo)準(zhǔn) |
硫酸銅 | 210-230g/L | 220g/L |
硫酸 | 45-55g/L | 50g/L |
CI- | 45-55ppm | 50ppm |
PCB-200 B 光亮劑 | 1.0-3.0ml/L | 2ml/L |
PCB-200 C 運(yùn)載劑 | 15-25ml/L | 20ml/L |
PCB-200 L 整平劑 | 3.0-8.0ml/L | 5ml/L |
電流密度 | 1.0-2.5A/dm2 | 1.8A/dm2 |
1、 預(yù)備槽中放入總體積的2/3體積純水;
2、 邊攪拌邊加入所需量50g/L的硫酸,然后加入220g/L硫酸銅攪拌至完全溶解,再緩慢加入0.1ml AR級(jí)37%HCl;
3、 加入2-3g/L的活性炭,鼓氣充分?jǐn)嚢?-2小時(shí),靜置使活性炭沉淀,經(jīng)二至三級(jí)過(guò)濾機(jī)過(guò)濾后,移至工作鍍槽;
4、 待液溫降至30℃以下時(shí),以0.1-0.5A/dm2進(jìn)行3-5小時(shí)電解,并完成鍍液的調(diào)整,直至銅陽(yáng)極生成一層均勻致密的黑膜;
5、 試鍍正常后,即可投入生產(chǎn)。
故障現(xiàn)象 | 可能原因 | 糾正方法 |
鍍層燒焦 | 硫酸銅含量過(guò)低 | 補(bǔ)充硫酸銅 |
硫酸含量過(guò)高 | 稀釋鍍液 | |
電流密度過(guò)大 | 降低電流密度 | |
鍍液溫度太低 | 提高鍍液溫度 | |
攪拌差 | 增強(qiáng)空氣攪拌 | |
光亮劑偏低 | 用赫爾槽試驗(yàn)確定光劑添加量 | |
陽(yáng)極過(guò)大或過(guò)多 | 陽(yáng)極:陰極面積=2:1 | |
圖形鍍時(shí),導(dǎo)線密度過(guò)稀 | 加假陰極 | |
鍍層光亮度差 | 光亮劑失調(diào) | 用赫爾槽試驗(yàn)確定光劑添加量 |
有機(jī)分解產(chǎn)物過(guò)多 | 用活性炭處理槽液 | |
鍍液溫度過(guò)高 | 開(kāi)啟冷卻系統(tǒng)降溫 | |
氯離子含量低 | 補(bǔ)充氯離子 | |
電流密度過(guò)小 | 提高電流密度 | |
鍍液太臟 | 過(guò)濾鍍液 | |
前處理不當(dāng) | 檢查并糾正前處理 | |
鍍液分散能力差 | 銅離子含量過(guò)高 | 稀釋鍍液 |
硫酸含量過(guò)低 | 增加硫酸 | |
溫度過(guò)高 | 開(kāi)啟冷卻系統(tǒng)降溫 | |
金屬雜質(zhì)影響 | 進(jìn)行電解處理 | |
光亮劑含量不當(dāng) | 調(diào)整光亮劑 | |
鍍層粗糙 | 陽(yáng)極溶解不正常,陽(yáng)極袋破損 | 增加陽(yáng)極面積,檢查陽(yáng)極銅的磷含量, 更換新陽(yáng)極袋 |
麻點(diǎn) | 攪拌不均勻 | 加強(qiáng)過(guò)濾 |
鍍液中有油污污染 | 活性炭處理 | |
鍍液中有固體顆粒懸浮 | 加強(qiáng)過(guò)濾 | |
鍍層有條紋 | 光亮劑過(guò)量 | 凈化處理鍍液或電解處理 |
有機(jī)雜質(zhì)過(guò)多 | 活性炭處理 | |
鍍前清洗液不當(dāng) | 檢查鍍前清洗液 及時(shí)更換 | |
陽(yáng)極鈍化(電流開(kāi)不大) | 陽(yáng)極與陰極面積比不正常 | 調(diào)整陽(yáng)極與陰極面積比=2:1 |
陽(yáng)極袋過(guò)緊或空隙堵塞 陽(yáng)極含磷量過(guò)高 氯離子含量過(guò)高 | 檢查陽(yáng)極袋并適當(dāng)清洗 含磷量應(yīng)在0.04-0.06% 稀釋槽液 清洗陽(yáng)極 | |
孔內(nèi)有空白點(diǎn) | 化學(xué)鍍銅層不完整 | 檢查化學(xué)鍍銅線并做調(diào)整 |
鍍液里有微小顆粒雜質(zhì) | 過(guò)濾槽液 | |
鍍前酸洗時(shí)間過(guò)長(zhǎng) | 控制浸酸時(shí)間 | |
鍍層脆性大 | 光亮劑含量高 | 電解 調(diào)整光亮劑 |
鍍液溫度過(guò)低 | 提高鍍液溫度 | |
鍍層有顆粒瘤狀物 | 光亮劑濃度過(guò)低 | 調(diào)整添加光亮劑 |
溫度太高 | 降溫 | |
電流密度過(guò)大 | 降低電流密度 | |
抗張力強(qiáng)度差 | 鍍液里雜質(zhì)過(guò)多 并產(chǎn)生了共沉積 | 定期處理鍍液 |
鍍層分層、脫皮 | 鍍前預(yù)處理不良 | 加強(qiáng)前處理 定期檢查更換 |
顯影不良而存在余膠 | 加強(qiáng)顯影工藝 及時(shí)更換新顯影液 | |
局部鍍不上 | 有干膜殘余物或其他污物 | 加強(qiáng)顯影 可用刷鍍方法修復(fù) |
1、 配制槽液添加硫酸時(shí),需特別小心,應(yīng)穿上保護(hù)衣物,及帶上手套、眼罩,以確保安全。
2、特別注意補(bǔ)加添加劑時(shí),不可預(yù)先混合一起加入鍍槽
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